|
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html] |
EN |
|
FR |
|
|
Тематики
- полупроводниковые приборы
EN
- MOCVD
- metal-organic chemical vapor deposition
|