PTTC.PNG
Skip to main content.

глубокое реактивное ионное травление
Дата последнего изменения:2012.11.01
Сообщить об ошибке
  глубокое реактивное ионное травление
 Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]
EN
 
FR
 

Тематики

  • полупроводниковые приборы

EN

  • DRIE
  • deep reactive ion etching

 

Внимание!

Закрыть