|
тетраэтилортосиликат
ТЭОС
Si(OC2H5)4
Газообразный реагент, обычно используемый в процессах химического осаждения SiO2 из паровой фазы; обеспечивает хорошую конформность покрытия; относительно инертное вещество, жидкое при комнатной температуре; термически разлагается при температуре около 700 oC с образованием SiO2; при дополнительном использовании плазмы температура осаждения уменьшается до значения ниже 500 oC.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html] |
EN |
|
FR |
|
|
Тематики
- полупроводниковые приборы
|