|
избирательное химическое осаждение из паровой фазы
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором тонкопленочный материал осаждается только в выбранных местах на поверхности подложки; избирательность осаждения управляется химическим составом поверхности, который можно локально изменять.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html] |
EN |
|
FR |
|
|
Тематики
- полупроводниковые приборы
EN
- SACVD
- selective area chemical vapor deposition
|