PTTC.PNG
Skip to main content.

отдаленная плазма

Дата последнего изменения:2012.11.01
Сообщить об ошибке
  отдаленная плазма
Данным термином обозначается режим плазменной обработки, при котором подложка располагается отдельно от плазмы и, следовательно, не подвергается непосредственному воздействию плазмы. Необходимые реакции (например, травление) реализуются с помощью извлечения ионизированных элементов из плазмы и их направления к поверхности подложки. Обработка методом отдаленной плазмы позволяет добиться меньшего повреждения поверхности, чем в стандартном процессе, так как при этом генерируемые плазмой ионы долетают до поверхности подложки, уже потеряв часть энергии.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]
EN

FR

Тематики

  • полупроводниковые приборы

EN

  • remote plasma

 

Внимание!

Закрыть