плазменное травление

Дата последнего изменения:2012.11.01
Сообщить об ошибке

	плазменное травление Сухое травление, при котором полупроводниковая подложка погружается в плазму, содержащую травящие реагенты; химическая реакция травления происходит с одинаковой скоростью в любом направлении, то есть травление изотропно; может быть очень избирательным; используется тогда, когда не требуется направленность (анизотропия) травления, например, при удалении резиста. [http://www.cscleansystems.com/glossary.html]
EN
FR