PTTC.PNG
Skip to main content.

плазмохимическое осаждение из паровой фазы

Дата последнего изменения:2012.11.01
Сообщить об ошибке
  плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.

[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]
EN
 
FR
 

Тематики

  • полупроводниковые приборы

EN

  • PECVD
  • plasma enhanced chemical vapor deposition

 

Внимание!

Закрыть